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簡述切割、研磨、拋光幾個容易忽視的操作環(huán)節(jié)

更新時間:2008-10-10      點擊次數(shù):1291

文章來自:http://www.sykejing.com/news/news_detail.asp?id=41

撰稿人:張風(fēng)芹
  就晶體而言,切割前應(yīng)對其定向,確定切割面,切割時首先將鋸片固定好,被切晶體材料固定好,切割速度選擇好,切割時不能不用切割液,它不僅能沖洗鋸片,而且還能減少由于切割發(fā)熱對晶體表面產(chǎn)生的損害,切割液還能沖刷切割區(qū)的晶體碎渣。
  切割下來的晶片,要進入下一道工序研磨。首先要用測厚儀分類測量晶片的厚度進行分組,將厚度相近的晶片對稱粘在載料塊上。粘接前,要對晶片的周邊進行倒角處理。粘片時載料塊溫度不易太高,只要固定臘溶化即可,晶片擺放在載料塊的zui外圈,粘片要對稱,而且要把晶片下面的空氣排凈(用鐵塊壓實)。防止產(chǎn)生載料塊不轉(zhuǎn)和氣泡引發(fā)的碎片的現(xiàn)象。然后再用測厚儀測量粘在載料塊上的晶片厚度,并作好初始記錄。在研磨過程中適時測量減薄的厚度,直到工藝要求的公差尺寸為止。
  使用研拋機前要將設(shè)備清洗干凈,同時為保證磨盤的平整度,每次使用前都要進行研盤,研盤時將修整環(huán)和磨盤自磨,選用研磨液要與研磨晶片的研磨液相同的磨料進行,每次修盤時間10分鐘左右即可。只有這樣才能保證在研磨時晶片表面不受損傷,達到理想的研磨效果。
  拋光前要檢查拋光布是否干凈,拋光布是否粘的平整,一定要干凈平整。進行拋光時,拋光液的流量不能小,要使拋光液在拋光布上充分飽和,一般拋光時間在一小時以上,期間不停機,因為停機,化學(xué)反應(yīng)仍在進行,而機械摩擦停止,造成腐蝕速率大于機械摩擦速率,而使晶片表面出現(xiàn)小坑點。推薦您使用本公司生產(chǎn)的循環(huán)攪拌泵及濃縮拋光液。
   設(shè)備的清洗非常重要,清洗是否干凈將直接影響磨、拋晶片的質(zhì)量。每次研磨或拋光后,都要認真將設(shè)備里外清洗干凈。載料塊支架上的支撐輪在轉(zhuǎn)動時,磨料容易進入輪 內(nèi),所以每次使用之前,一定要用毛刷將支撐輪縫隙殘留磨料刷干凈,使支撐輪轉(zhuǎn)動自如。保證磨、拋晶片的平整度.
沖洗設(shè)備時水流不易太大,以免水進入機殼內(nèi)部引起電線短路。
如果您的設(shè)備長期不使用時,要將設(shè)備清洗干凈并擦干水跡,在鑄鐵盤上涂滿機油,以免生銹。

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