產(chǎn)品簡介
該自動鈣鈦礦涂膜系統(tǒng)采用自動吸液注液方式,注液后在基片表面自動旋涂出一層薄膜,旋涂后移動基片至烤膠機(jī)表面進(jìn)行薄膜烘干。液體可進(jìn)行攪拌防止沉淀,如需加熱可對液體進(jìn)行加熱操作。整個操作過程在11寸觸摸屏上進(jìn)行設(shè)置,操作直觀方便。該設(shè)備適用于大專院校及科研實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行的鈣鈦礦薄膜及其他液體薄膜的研究,可根據(jù)客戶各種要求進(jìn)行設(shè)備定制。
技術(shù)參數(shù)
產(chǎn)品名稱 | VTC-110PAX高通量自動旋轉(zhuǎn)涂膜系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號 | VTC-110PAX |
主要參數(shù) | VGB-6手套箱參數(shù):可開啟式單面雙工位手套箱 手套箱腔體 | 殼體材料:304 不銹鋼 尺寸: 1200mm(L) x 780mm(W) x 900mm(H) 前窗設(shè)計為開啟式,以便放入各種儀器 | 腔體環(huán)境 | 水含量: <1 ppm (20°C, 1 atm) 氧含量: <1 ppm (20°C, 1 atm) | 前級室 | 設(shè)計有兩個前級室 大前級室尺寸:Φ360mm x 600mmL 小前級室尺寸:Φ150 mm x 300mm(L) | 工作氣體 | 工作氣體:N2、Ar、He 等惰性氣體 控制氣體:壓縮空氣或惰性氣體 還原氣體:工作氣體和氫氣(H2)的混合氣。 如果凈化系統(tǒng)只有除水功能的,還原氣體與工作氣體相同 | 氣體凈化系統(tǒng) | 德國 BASF 除氧材料,美國 UOP 吸水材料,凈化系統(tǒng)再生過程自動控制,自動除水除氧功能;可長期、持續(xù)維持氣體純度:水<1ppm,氧<1ppm。 | 壓力控制系統(tǒng) | 腔體氣壓可通過 PLC 觸摸屏自動控制 控制精度為: ±1Pa 也可通過腳踏開關(guān)進(jìn)行手動控制 | 過濾系統(tǒng) | 進(jìn)氣和出氣端都安裝有過濾器 過濾精度為:0.3μm | 控制系統(tǒng) | SIEMENS 彩色觸摸屏(6 寸),PLC 控制系統(tǒng),中英文雙語可切換 水探頭:采用美國 GE 品牌,0~1000ppm 觸摸屏顯示,精度 0.1 ppm 氧變送器:采用美國AII品牌,0~1000ppm觸摸屏顯示,精度0.1 ppm 壓力傳感儀:采用美國 setra 品牌,-2500~2500Pa 觸摸屏顯示,精度±1Pa | 手套 | 美國 NORTH 品牌丁基合成橡膠 | 照明系統(tǒng) | 配置飛利浦品牌熒光燈管 | 儀器尺寸 | 2300mm(L) x 1500mm(W) x 1900mm(H) | 注意事項(xiàng) | 手套箱內(nèi)部氣體循環(huán)時,必須保證循環(huán)系統(tǒng)管道通暢,不可堵塞 手套箱中不可通入腐蝕性氣體 要定期對手套箱進(jìn)行再生 手套箱的除氧速率要根據(jù)所通入的工作氣體而定,采用 N2 的除氧要比通入 Ar 好 若手套箱內(nèi)部放有腐蝕性氣體(如 LiPF6 電解液),不使用時,必須把裝液體的瓶子密封好 |
制膜系統(tǒng)參數(shù) 旋涂工位數(shù)量 | 4工位 | 旋涂機(jī)參數(shù) | 1、腔體(材質(zhì)):聚丙烯 2、載樣盤(吸盤):聚丙烯吸盤Φ19mm 、Φ60mm 、φ100㎜各一個 3、運(yùn)行方式:可儲存 12 組程序;每組程序包含 6 個運(yùn)行階段 4、涂膜轉(zhuǎn)速:20rpm-12500rpm 有效,速度分辨率1rpm/s 5、增減速率:每段增減速率設(shè)置范圍: 20 rpm —15000 rpm/s 6、涂膜時間:每段時間范圍:0-3000s 7、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性:±1% | 液體攪拌系統(tǒng) | 配備四個可加熱磁力攪拌泵 加熱溫度RT-100℃ 磁力攪拌速度:0-2000rpm | 注液系統(tǒng) | 移液槍自動左右上下移動 水平移動有效行程:500mm行程 水平移動速度:1~1800mm/min(整數(shù))。 垂直上下移動有效行程:250mm; 上下提拉移動速度:1~200mm/min(整數(shù)) 配備四個高精度自動注液器 注液精度:±1μl 增量:1μl | 薄膜烘干系統(tǒng) | 1、加熱功率:3500W 2、加熱溫度:≤500℃ 3、控溫精度:±1℃ 4、加熱板:350mm×240mm |
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