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  • OTF-1500X-III1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III

    1500℃三溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1500X-III是高溫管式爐,Z高溫度可達1500℃,三個溫區(qū)分別用三個獨立的溫控系統(tǒng)控制,每個溫區(qū)都可以設置30段升降溫程序,并設有過熱和斷偶保護功能,控溫精度高達±1℃。本機特別適合于在氣氛保護或真空環(huán)境下對樣品進行退火和燒結。

    更新日期:2016-04-18
    型號:OTF-1500X-III
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1600X1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X

    1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X加熱元件采用1700℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結或退火。

    更新日期:2016-04-20
    型號:GSL-1600X
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1600X-S1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S

    1600℃真空高溫管式爐GSL-1600X-S加熱元件采用1750℃級硅鉬棒,廣泛用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下,新材料樣品的燒結或退火。

    更新日期:2016-04-20
    型號:GSL-1600X-S
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1600X-Ⅱ1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ

    1600℃雙溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ每個加熱區(qū)域長300mm,由30段智能溫度調節(jié)儀進行控溫,采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃,采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃,通過調節(jié)兩個溫區(qū)的控溫程序使爐管內溫度場形成一溫度梯度。本機可用于CVD或PVD方法來生長納米材料和制作各種薄膜。

    更新日期:2016-04-18
    型號:GSL-1600X-Ⅱ
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1600X-III1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III

    1600℃三溫區(qū)高溫真空管式爐GSL-1600X-III主要用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實驗或小批量生產,針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積(CVD)等工藝。

    更新日期:2016-04-18
    型號:GSL-1600X-III
    廠商性質:生產廠家
  • GSL-1700X1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X

    1700℃高溫真空氣氛管式爐GSL-1700X采用1800℃級硅鉬棒為加熱元件,Z高溫度可達到1700℃,可廣泛地用于真空或惰性氣體保護狀態(tài)下材料的燒結和退火。

    更新日期:2016-04-20
    型號:GSL-1700X
    廠商性質:生產廠家
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