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簡(jiǎn)要描述:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬(wàn)-10萬(wàn) |
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過(guò)樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。
2、中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。
3、性能優(yōu)良,操作簡(jiǎn)單,適用范圍廣。
產(chǎn)品名稱 | UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī) | |
產(chǎn)品型號(hào) | UNIPOL-1000D | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來(lái)水及排水 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:無(wú) 4、工作臺(tái):尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:不需要 | |
主要參數(shù) | 1、電源:220V 50Hz 2、載物盤:?150mm 3、桃型孔:?25.4mm 4、磨拋盤:?250mm 5、載物盤(上盤)轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無(wú)級(jí)調(diào)速) 6、磨拋盤(下盤)轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,最小增量10) 7、壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg) | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:780mm×590mm×750mm; 重量:100kg | |
序號(hào) | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
1 | 鑄鋁拋光盤 | 2個(gè) | |
2 | 桃型孔載物盤 | 1個(gè) | |
3 | 磁力片 | 4片 | |
4 | 研拋底片 | 6片 | |
5 | 砂紙(240#、400#、800#、1500#) | 各2片 | |
6 | 拋光墊 (磨砂革、合成革、聚氨酯) | 各2片 | |
7 | 金剛石拋光膏 | 1支 |
序號(hào) | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
1 | 平載物盤 | (可選) | |
2 | 修盤環(huán) | (可選) | |
3 | SKZD-2滴料器 | (可選) | |
4 | SKZD-3滴料器 | (可選) | |
5 | SKZD-4自動(dòng)滴料器 | (可選) | |
6 | SKZD-5滴料器 | (可選) | |
7 | YJXZ-12攪拌循環(huán)泵 | (可選) | |
8 | 精密測(cè)厚儀 | (可選) | |
9 | 陶瓷研磨盤 | (可選) | |
10 | 玻璃研磨盤 | (可選) |
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