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UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)

簡(jiǎn)要描述:UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、巖樣、礦樣等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。本機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-03-20
  • 訪  問(wèn)  量:2311

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間5萬(wàn)-10萬(wàn)
產(chǎn)地類別國(guó)產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域地礦

UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)主要用于材料研究領(lǐng)域,廣泛使用于大專院校、科研院所實(shí)驗(yàn)室的金屬、陶瓷、玻璃、紅外光學(xué)材料(如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體)、巖樣、礦樣、有機(jī)高分子材料、復(fù)合材料等材料樣品的自動(dòng)研磨拋光,以及工廠的小規(guī)模生產(chǎn)等。UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可以分別進(jìn)行研磨、拋光操作,既避免了交叉污染,又提高了工作效率。本機(jī)采用機(jī)械加壓模式對(duì)被研磨樣品加壓,壓力施加于載物盤的中心,使整個(gè)載物盤受力均勻。通過(guò)手觸控制屏對(duì)設(shè)備進(jìn)行控制,上盤可以進(jìn)行順時(shí)針旋轉(zhuǎn)也可以進(jìn)行逆時(shí)針旋轉(zhuǎn),下盤作順時(shí)針旋轉(zhuǎn),通過(guò)樣品盤的材質(zhì)不同可以選擇上盤的旋轉(zhuǎn)方向。機(jī)器工作過(guò)程中噪音小,具有研磨定時(shí)功能,時(shí)間到機(jī)器自動(dòng)停止,可以實(shí)現(xiàn)無(wú)人看守工作。1、設(shè)有兩個(gè)研磨拋光工位,可分別進(jìn)行研磨、拋光操作。
2、中心加載壓力,壓力穩(wěn)定可靠。
3、性能優(yōu)良,操作簡(jiǎn)單,適用范圍廣。

產(chǎn)品名稱      
UNIPOL-1000D雙盤壓力研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)      
UNIPOL-1000D
安裝條件      
本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有上水口及下水口,需自行連接自來(lái)水及排水
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:無(wú)
4、工作臺(tái):尺寸800mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:不需要
主要參數(shù)      
1、電源:220V  50Hz
2、載物盤:?150mm
3、桃型孔:?25.4mm
4、磨拋盤:?250mm
5、載物盤(上盤)轉(zhuǎn)速:10rpm-80rpm(無(wú)級(jí)調(diào)速)
6、磨拋盤(下盤)轉(zhuǎn)速:50rpm-400rpm(增量調(diào)速,最小增量10)
7、壓力:0.5kg-20kg(最小增量0.5kg)
產(chǎn)品規(guī)格      

尺寸:780mm×590mm×750mm;

重量:100kg













序號(hào)名稱數(shù)量圖片鏈接
1鑄鋁拋光盤2個(gè)
2桃型孔載物盤
1個(gè)

3磁力片4片
4研拋底片6片
5砂紙(240#、400#、800#、1500#)各2片
6

拋光墊

(磨砂革、合成革、聚氨酯)

各2片
7金剛石拋光膏1支

序號(hào)
名稱
功能類別
圖片鏈接
1平載物盤
(可選)

2
修盤環(huán)
(可選)

3
SKZD-2滴料器
(可選)

4
SKZD-3滴料器
(可選)

5SKZD-4自動(dòng)滴料器
(可選)

6SKZD-5滴料器
(可選)

7YJXZ-12攪拌循環(huán)泵
(可選)

8精密測(cè)厚儀
(可選)

9陶瓷研磨盤
(可選)

10玻璃研磨盤
(可選)


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