產品中心
簡要描述:PCE-22-LD紫外臭氧清洗機采用不需要任何溶劑的干式清洗技術,對清洗表面沒有損傷。采用大功率低壓石英汞燈,產生波長185nm和254nm的紫外線,185nm的光可以將氧分子O2轉變成活性的臭氧分子O3,254nm的光同時激發(fā)清洗表面的有機分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時間短,且同時也被254nm的光分解,因此可調節(jié)樣品臺到燈管的距離來優(yōu)化性能。
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
應用領域 | 地礦 |
PCE-22紫外臭氧清洗機是一款可加熱型的紫外臭氧清洗機,其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片,為制作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠,改善表面潤濕性,清洗SEM &TEM,紫外對聚合物改性等。 紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別的清洗手段,特別適合清除一些有機化合物。紫外燈主要發(fā)出兩種波長的光:185nm和254nm。其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌粞酰?54nm可以破壞化合物中的鍵(特別是碳碳鍵)。所以這兩種波長的光組合可有效地清除有機化合物。1、僅室內使用; 海拔高度5500英尺以內;
2、溫度范圍:5-40℃;
3、相對濕度上限80%,30.5℃,40℃線性降至50%相對濕度;
4、主電源波動不超過額定電壓的10%;
5、污染等級2; 臭氧水平(環(huán)境)測量<45 ppb。
6、去除分子級別的污染物
7、紫外光固化粘合劑
8、紫外光催化
9、氧化PDMS
10、表面消毒
11、刻蝕
12、清洗MEMS 器件
13、清洗各種基片,如Si, Ge, GaAs和各種氧化物單晶基片
產品名稱 | PCE-22紫外臭氧清洗機 | |
產品型號 | PCE-22 | |
主要參數(shù) | 1、功率:上限350W 2、AC 208~240V,單相 50/60Hz | |
腔體&樣品臺 1、不銹鋼殼體 2、抽屜式樣品臺,以便放樣取樣 3、樣品臺面積310 mm x 320 mm 4、臭氧通風裝置安裝在腔體上 5、樣品臺與紫外燈的距離:20mm -40mm(可調) 6、樣品臺可以加熱,最高溫度可達150℃ 7、可設置20段升降溫程序,控溫精度為+/-1℃ 8、設備運行時間:0.01 秒- 99.9小時 | ||
排氣口 1、直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端 2、請將橡膠管與排氣口連接,將臭氧排出到實驗室外 3、儀器中不包含橡膠管 | ||
紫外燈 1、可發(fā)出雙波長的水銀燈 2、功率:55W 3、發(fā)出光的波長:254 nm 和 185 nm 4、使用壽命:2500 小時(可更換) 5、照射區(qū)域:200 x 200 mm 6、可以清潔直徑上限為12英寸x 35毫米的晶體晶片。 | ||
產品規(guī)格 | 1、尺寸:510mm x 350mm x 400mm (W x H x D) 2、重量:28kg |
產品咨詢