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1100℃三溫區(qū)帶滑軌8.5″管式爐GSL-1100X-8.5-SR-III是三溫區(qū)滑軌真空管式爐,可通入混合氣體進(jìn)行低壓力化學(xué)氣相沉積處理。本機(jī)可在不同氣氛下,在Z大6″的基片上生長多種薄膜。
1100℃三溫區(qū)11″管式爐GSL-1100X-11-III是三溫區(qū)大尺寸系列管式爐,爐管直徑達(dá)到11″。本機(jī)廣泛用于真空或氣氛保護(hù)環(huán)境下對材料進(jìn)行燒結(jié)。
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X采用高純石英管,外徑規(guī)格有6″、8″、8.5″、11″可選,并配有不銹鋼法蘭,可進(jìn)行抽真空或通入其他氣氛氣體操作,主要用于大尺寸樣品燒結(jié)的需求。
1200℃七溫區(qū)獨(dú)立控制管式爐OTF-1200X-VII(定制)采用獨(dú)立的溫控裝置,可離開爐體進(jìn)行溫控操作,通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度,可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度,或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)具有控溫精度高,保溫效果好,溫度范圍大,溫度均勻性高,溫區(qū)多,可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點(diǎn)。
1200℃五溫區(qū)獨(dú)立控制管式爐OTF-1200X-V(定制)采用獨(dú)立的溫控裝置,可離開爐體進(jìn)行溫控操作,通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度,可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度,或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)具有控溫精度高,保溫效果好,溫度范圍大,溫度均勻性高,溫區(qū)多,可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點(diǎn)。
1200℃五溫區(qū)開啟式管式爐OTF-1200X-V每個溫區(qū)分別由獨(dú)立的溫控系統(tǒng)控制,通過調(diào)節(jié)各個溫區(qū)的溫度,可以在加熱區(qū)內(nèi)形成四段溫度梯度,或形成較長的恒溫區(qū)域。本機(jī)用于高等院校、科研院所、工礦企業(yè)等實(shí)驗(yàn)或小批量生產(chǎn),主要針對電子陶瓷的預(yù)燒、燒結(jié)、鍍膜、高溫?zé)峤獾蜏爻练e(CVD)等工藝。具有控溫精度高,保溫效果好,溫度范圍大,溫度均勻性高,溫區(qū)多,可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點(diǎn)。