產(chǎn)品中心
當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 真空鍍膜機 > 磁控濺射鍍膜 > VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀
簡要描述:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。配備有兩個靶槍,一個弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣
相關(guān)文章ARTICLES
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |
VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個靶槍和兩個電源,一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。1、配置兩個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-2HD | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 | |
主要參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、功率:900W 3、腔體內(nèi)徑:?300mm 4、極限真空度:9.0×10-4Pa 5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度) 6、靶槍數(shù)量:2個(可選配其他數(shù)量) 7、靶槍冷卻方式:水冷 8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇兩個直流電源,也可選擇兩個射頻電源,或選則一個直流一個射頻電源) 10、載樣臺:?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、工作氣體:Ar等惰性氣體 13、進氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。 | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機尺寸:500mm×560mm×660mm |
序號 | 名稱 | 數(shù)量 | 圖片鏈接 |
1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 1套 | |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | - |
3 | 膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng) | 1套 | - |
4 | 分子泵(德國進口或者國產(chǎn)更大抽速) | 1臺 | - |
5 | 冷水機 | 1臺 | - |
6 | 聚酯PU管(?6mm) | 4m | - |
序號 | 名稱 | 功能類別 | 圖片鏈接 |
1 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 | (可選) | - |
2 | 可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜 | (可選) | - |
3 | 雙層旋轉(zhuǎn)鍍膜夾具 | (可選) |
產(chǎn)品咨詢