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GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發(fā)附件,具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜,也可以用蒸發(fā)的方式得到碳或其他金屬單質(zhì)的薄膜。本機(jī)能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作,也可以用于材料研究中各種新材料性能的實(shí)驗(yàn)。
OTF-1200X-RTP-II近距離蒸發(fā)鍍膜(CSS)爐是一款快速蒸發(fā)管式爐,專門用于PVD或CSS法制作薄膜;其爐管外徑為11″,爐管內(nèi)載樣盤可放置3″ 的圓形或2″×2″的方形基片;加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體頂端和底部,升溫速率高達(dá)20℃/s ;溫控系統(tǒng)采用PID30段程序化控制,控溫精度為±1℃,并且儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內(nèi)配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出。
GSL-1800X-ZF2蒸發(fā)鍍膜儀主要應(yīng)用于大專院校、科研機(jī)構(gòu)、企業(yè)實(shí)驗(yàn)室及微小產(chǎn)品進(jìn)行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓(xùn)和生產(chǎn)。
GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀是一款高真空的蒸發(fā)鍍膜儀,特別適合蒸鍍對(duì)氧較敏感的金屬膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有機(jī)物。本機(jī)設(shè)有4個(gè)蒸鍍加熱舟,每個(gè)加熱舟都可獨(dú)立進(jìn)行蒸鍍,加熱舟上方有一個(gè)可旋轉(zhuǎn)擋板,當(dāng)其中一個(gè)加熱舟進(jìn)行蒸鍍時(shí)擋板將其它三個(gè)鎢舟遮住,以防蒸鍍材料之間相互污染。若更改部分配置也可實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)材料的蒸發(fā)鍍膜,可滿足發(fā)光器件及有機(jī)太陽(yáng)能電池方面的研究要求,是一款鍍膜效果理想
GSL-1100X-SPC-15E-LD小型蒸鍍儀可對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳處理,可處理的樣品直徑可達(dá)50mm,真空度可達(dá)到10-2torr,適合用于實(shí)驗(yàn)室對(duì)小樣品進(jìn)行表面的蒸碳鍍膜使用
GSL-1700X-SPC-2小型程序控溫蒸發(fā)鍍膜儀可設(shè)定程序,并精確控制溫度200ºC-1500ºC(或者1200ºC-1700ºC),Z大可蒸鍍直徑2“的薄膜樣品,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),以獲得更均勻的薄膜??芍苽涓鞣N金屬薄膜和有機(jī)物薄膜,廣泛用于電極的制備和有機(jī)物發(fā)光LED。