GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產生的濺射效應，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術的一種。設計而成的簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀可用于實驗室制備掃描電鏡樣品使用，且設備體積小巧，節(jié)約實驗室空間；操作簡單，適合初學人員使用。1、設有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。
2、通過調節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效果。
3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計，可保證長期使用不出現玻璃鐘罩崩邊現象。
4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經久耐用。
5、根據電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
6、濺射頭采用Peltier制冷技術，可得到高性能、精細顆粒的涂層。
7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。