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簡要描述:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦 |
VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。1、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
4、整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。
5、可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-3HD雙靶磁控濺射儀 | |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-3HD | |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 | |
主要參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz 2、總功率:<2.5KW 3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到 E-5mbar) 4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度) 5、靶槍數(shù)量:3個 6、靶槍冷卻方式:水冷 7、靶材尺寸:?2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同) 8、直流濺射功率:500W(可選) 9、射頻濺射功率:300W/500W(可選) 10、載樣臺:?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 12、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體 13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個流量為100 SCCM,1個流量為200 SCCM | |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm, | |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1直流電源控制系統(tǒng)2套 2射頻電源控制系統(tǒng)1套 3膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)1套 4分子泵(德國進(jìn)口)1臺 5冷水機(jī)1臺 6冷卻水管(?6mm)4根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 |
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