產(chǎn)品名稱

鈣鈦礦鍍膜機(jī)

主要特點(diǎn)

1、樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。

2、設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，烘烤加熱溫度可達(dá)180℃。

3、設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報(bào)警裝置及防誤操作保護(hù)報(bào)警裝置。

技術(shù)參數(shù)

1、鍍膜室：不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×

           450mm×450mm

2、真空排氣系統(tǒng)：采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)

3、真空度：鍍膜室極限真空≤6×10^-4Pa

4、系統(tǒng)漏率：≤1×10^-7Pa

5、蒸發(fā)源：安裝在真空室的下底上；有機(jī)蒸發(fā)源4個(gè)、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，可測溫、

           控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml，2臺蒸發(fā)電

           源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動(dòng)磁力控制方式控制其開

           啟

6、樣品架：安裝在真空室的上蓋上，可放置Ø120mm的樣品、載玻片，旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm

7、加熱溫度：RT-180℃，測溫、控溫

8、膜厚控制儀：石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999Å