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簡要描述:產(chǎn)品簡介:VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭(另有1英寸靶頭可選)和可旋轉(zhuǎn)樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形,甚至損壞樣品;樣品臺可旋轉(zhuǎn),可以使樣品邊旋轉(zhuǎn)邊鍍膜,使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設(shè)備外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。VTC-16-SM小型高能
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詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 地礦,能源 |
VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀操作視頻
產(chǎn)品型號 | VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀 |
技術(shù)參數(shù) | 1、輸入電源:220VAC 50/60Hz 2、濺射電流:0-150 mA可調(diào) 3、功率:<2KW 4、輸出電壓:1600VDC(max) 5、濺射腔體 (1).采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H (2).密封:采用O形密封圈密封 6、濺射頭&樣品臺 (1).二英寸帶水冷的磁控濺射頭(注意:水冷機不是標配)另有1英寸靶頭可選 (2).一個直徑50mm不銹鋼樣品臺,樣品臺可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0-5 RPM (3).安裝有一可手動操作的濺射擋板 (4).樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:30-80mm (5).靶頭支架,可以在非濺射狀態(tài)放置濺射靶頭 (6).濺射面積:4英寸(max) 7、控制面板 6" PLC集成觸摸屏控制面板,可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度 8、真空系統(tǒng) (1)安裝有KF25真空接口 (2)數(shù)字真空壓力表(Pa) (3)此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含) (4)采用機械泵 <1.0E-2 Torr (5)采用渦旋分子泵 <1.0E-5 Torr (6)可在本公司選購各種真空泵 9、進氣 含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥,本設(shè)備接氣需要安裝減壓閥 10、靶材 (1)靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度) (2)適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬(可在我公司選購) |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、產(chǎn)品外型尺寸:(L)460 mm × (W)330 mm × (H)520 mm 2、凈重:20 kg(不包含泵及水冷機) |
可選配件 | 薄膜測厚儀 加熱樣品臺 浮子流量計 |
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