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VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀

簡要描述:產(chǎn)品簡介:VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀,包含一個2英寸水冷靶頭(另有1英寸靶頭可選)和可旋轉(zhuǎn)樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形,甚至損壞樣品;樣品臺可旋轉(zhuǎn),可以使樣品邊旋轉(zhuǎn)邊鍍膜,使鍍膜后的樣品表面膜厚均勻。設(shè)備外形小巧,性價比高,是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設(shè)備,可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設(shè)備使用。VTC-16-SM小型高能

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2020-01-07
  • 訪  問  量:2202

詳細介紹

品牌其他品牌產(chǎn)地類別國產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域地礦,能源

 

 

VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀操作視頻

 

產(chǎn)品型號

VTC-16-SM小型高能直流磁控濺射儀

技術(shù)參數(shù)

1、輸入電源:220VAC 50/60Hz

2、濺射電流:0-150 mA可調(diào)

3、功率:<2KW

4、輸出電壓:1600VDC(max)

5、濺射腔體

(1).采用石英腔體,尺寸:166mm OD x 150mm ID x 290mm H

(2).密封:采用O形密封圈密封

6、濺射頭&樣品臺

(1).二英寸帶水冷的磁控濺射頭(注意:水冷機不是標配)另有1英寸靶頭可選

(2).一個直徑50mm不銹鋼樣品臺,樣品臺可旋轉(zhuǎn),旋轉(zhuǎn)速率0-5 RPM

(3).安裝有一可手動操作的濺射擋板

(4).樣品臺和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:30-80mm

(5).靶頭支架,可以在非濺射狀態(tài)放置濺射靶頭

(6).濺射面積:4英寸(max)

7、控制面板

6" PLC集成觸摸屏控制面板,可控制真空、電流、靶材位置和基片加熱溫度

8、真空系統(tǒng)

(1)安裝有KF25真空接口

(2)數(shù)字真空壓力表(Pa)

    (3)此系統(tǒng)運行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)

(4)采用機械泵 <1.0E-2 Torr

(5)采用渦旋分子泵 <1.0E-5 Torr

(6)可在本公司選購各種真空泵

9、進氣

含一個控制進氣的針閥和一個放氣閥,本設(shè)備接氣需要安裝減壓閥

10、靶材

(1)靶材尺寸要求:Φ50mmx(0.1-2.5) mm(厚度)

(2)適合濺射Au,Ag,Cu,Al,Ti,等金屬(可在我公司選購)

產(chǎn)品規(guī)格

1、產(chǎn)品外型尺寸:(L)460 mm × (W)330 mm × (H)520 mm

2、凈重:20 kg(不包含泵及水冷機)

可選配件

薄膜測厚儀

加熱樣品臺

浮子流量計

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