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簡要描述:產(chǎn)品簡介:磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用*的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 地礦,冶金 |
產(chǎn)品簡介:磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用*的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。
技術參數(shù) | 卷膜條件 |
鍍膜材料:PET 和無紡布 適用制膜:軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。 基材厚度:125~300μm 有效鍍膜寬幅:≤800 mm 大卷繞直徑:Φ400 mm 卷繞芯軸內(nèi)徑:4 寸 基材卷繞速度:1~2 m/min 基材卷繞張力:30 ~ 200 N 張力系統(tǒng):交流伺服 濺鍍方式:單面 | |
真空條件 | |
極限真空(空載、潔凈):8×10-4Pa 恢復真空時間(空載、清潔):105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min 系統(tǒng)真空漏率:1.0×10-10 Pa.m3/s 磁控濺射陰極數(shù)量:3 個 膜均勻性偏差:≤±10% |
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