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磁控濺射卷繞鍍膜機

簡要描述:產(chǎn)品簡介:磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用*的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

  • 產(chǎn)品型號:磁控濺射
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2019-12-27
  • 訪  問  量:2299

詳細介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應用領域地礦,冶金

產(chǎn)品簡介:磁控濺射卷繞鍍膜機是磁控濺射多用途卷繞鍍膜設備,適用于在 PET 和無紡布上鍍制金屬膜(銅,鋁等)功能性薄膜,設備采用*的磁控濺射鍍膜技術,配備直流、射頻磁控濺射系統(tǒng),適合鍍制軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

技術參數(shù)

卷膜條件

鍍膜材料:PET 和無紡布

適用制膜:軟磁合金膜、金屬膜、導電膜、合金膜、介質(zhì)膜等。

基材厚度:125~300μm

有效鍍膜寬幅:≤800 mm

大卷繞直徑:Φ400 mm

卷繞芯軸內(nèi)徑:4 寸

基材卷繞速度:1~2 m/min

基材卷繞張力:30 ~ 200 N

張力系統(tǒng):交流伺服

濺鍍方式:單面

真空條件

極限真空(空載、潔凈):8×10-4Pa

恢復真空時間(空載、清潔):105Pa ~ 5×10-3Pa≤60 min

系統(tǒng)真空漏率:1.0×10-10 Pa.m3/s

磁控濺射陰極數(shù)量:3 個

膜均勻性偏差:≤±10%

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