VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

簡要描述：VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點

產(chǎn)品型號：
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-01-17
訪問量：854

產(chǎn)品咨詢聯(lián)系我們

產(chǎn)品分類CLASSIFICATION

相關(guān)文章ARTICLES

磁控濺射儀的儀器特點你了解多少

查看全部

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價格區(qū)間	面議
產(chǎn)地類別	國產(chǎn)	應(yīng)用領(lǐng)域	冶金,綜合

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀配備有三個靶槍和三個電源，一個射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，且可使用的材料范圍廣，是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置三個靶槍，兩個配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

產(chǎn)品名稱	VTC-600-3HD-1000雙靶磁控濺射儀
產(chǎn)品型號	VTC-600-3HD-1000
主要參數(shù)	1、輸入電源：220V/50Hz 2、濺射靶數(shù)量：3 3、腔體內(nèi)徑：?300mm 4、靶槍冷卻方式：水冷 5、極限真空度：7.4E-5pa 6、真空室規(guī)格：Φ300×330 mm 7、真空系統(tǒng)：VRD-16機械泵 FF-100/150渦輪分子泵 8、恢復(fù)真空：系統(tǒng)從大氣抽至5.0E-3pa≤30 min（系統(tǒng)短時間暴露大氣） 9、充氣系統(tǒng)：2路質(zhì)量流量計（１路氬氣100scc、1路氬氣200scc）特殊氣體可定制 10、濺射靶規(guī)格：Φ2"，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 11、樣品臺：Φ70mm//可加熱（室溫～1000℃）
產(chǎn)品規(guī)格	主機尺寸：寬900mm×深650mm×高1100mm

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
省份：
詳細(xì)地址：
補充說明：
驗證碼：

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

上一篇：UNIPOL-1220S型自動研磨工作站
下一篇：UNIPOL-1204自動精密磨片機

国产精品 欧美精品aⅴ在线-真实国产日韩欧美全部综合视频-精品精品国产欧美在线观看-最新免费网站高清国产欧美

VTC-600-3HD-1000三靶磁控濺射儀

留言框

產(chǎn)品：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

省份：

詳細(xì)地址：

補充說明：

驗證碼：

国产精品欧美精品aⅴ在线-真实国产日韩欧美全部综合视频-精品精品国产欧美在线观看-最新免费网站高清国产欧美