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VTC-600GD高真空磁控濺射儀

簡(jiǎn)要描述:VTC-600GD高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-05-08
  • 訪  問  量:414

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價(jià)格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

IMG_256

VTC-600GD 高真空磁控濺射儀是新自主研制開發(fā)的鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600GD高真空磁控濺射儀最多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等。IMG_257

 

·最多可選配四個(gè)靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據(jù)客戶需要任意調(diào)換)。

·可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。

·體積小,操作簡(jiǎn)便。

·整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整。

·可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍。IMG_258

產(chǎn)品名稱

VTC-600GD高真空磁控濺射儀

產(chǎn)品型號(hào)

VTC-600GD

安裝條件

本設(shè)備要求在溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺(tái):尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要

主要參數(shù)

1、電源電壓:220V  50Hz
2、總功率:<3.5KW
3、腔體內(nèi)徑:Ø300mm
4、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設(shè)備使用可達(dá)到?E-5mbar)
5、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:4個(gè)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W(可選)
10、射頻濺射功率:300W
11、載樣臺(tái):Ø140mm
12、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
13、保護(hù)氣體:Ar、N2等惰性氣體
14、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣,1個(gè)流量為100 SCCM,1個(gè)流量為200 SCCM

15、產(chǎn)品規(guī)格:
·尺寸:
主機(jī)尺寸:850mm×760mm×660mm,
整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm;
·重量:190kg

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序號(hào)

名稱

數(shù)量

圖片鏈接

1

直流電源控制系統(tǒng)

(可選)套

-

2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套

-

3

膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng)

1套

-

4

分子泵(德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速)

1臺(tái)

-

5

冷水機(jī)

1臺(tái)

-

6

聚酯PU管(Ø6mm)

4m

-


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序號(hào)

名稱

功能類別

圖片鏈接

1

金、銦、銀、鉑等各種靶材

(可選)

-

2

可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。

(可選)

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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