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簡(jiǎn)要描述:加熱臺(tái)主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺(tái)的加熱。
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加熱臺(tái)主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺(tái)的加熱。
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