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當前位置:首頁 > 產品中心 > 實驗室檢測及分析儀器 > 膜厚儀 > TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)
簡要描述:TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)利用薄膜干涉光學原理,對薄膜進行厚度測量及分析。用從深紫外到近紅外可選配的寬光譜光源照射薄膜表面,探頭同位接收反射光線。TF200薄膜厚度測量系統(tǒng)根據反射回來的干涉光,用反復校準的算法快速反演計算出薄膜的厚度。測量范圍1nm-3mm,可同時完成多層膜厚的測試。對于100nm以上的薄膜,還可以測量n和k值。
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詳細介紹
品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
---|---|---|---|
應用領域 | 化工,石油,地礦,能源,綜合 |
產品名稱 | TF200薄膜厚度測量系統(tǒng) | |||
產品型號 | TF200-VIS | TF200-EXR | TF200-DUV | TF200-XNIR |
主要特點 | 快速、準確、無損、靈活、易用、性價比高 | |||
應用領域 | 半導體(SiO2/SiNx、光刻膠、MEMS,SOI等) LCD/TFT/PDP(液晶盒厚、聚亞酰胺ITO等) LED (SiO2、光刻膠ITO等) 觸摸屏(ITO AR Coating反射/穿透率測試等) 汽車(防霧層、Hard Coating DLC等) 醫(yī)學 | |||
波長范圍 | 380-1050nm | 380-1700nm | 190-1100nm | 900-1700nm |
厚度范圍 | 50nm-40um | 50nm-300um | 1nm-30um | 10um-3mm |
準確度(取決于材料0.4%或2nm之間取較大者) | 2nm | 2nm | 1nm | 10nm |
精度 | 0.2nm | 0.2nm | 0.2nm | 3nm |
入射角 | 90° | 90° | 90° | 90° |
樣品材料 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 | 透明或半透明 |
測量模式 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 | 反射/透射 |
光斑尺寸(可選微光斑附件。) | 2mm | 2mm | 2mm | 2mm |
是否能在線 | 是 | 是 | 是 | 是 |
掃描選擇 | XY可選 | XY可選 | XY可選 | XY可選 |
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