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VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。

  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-03-30
  • 訪  問  量:285

詳細(xì)介紹

品牌其他品牌價格區(qū)間面議
產(chǎn)地類別國產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域綜合

IMG_256VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。IMG_2591、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。IMG_261

產(chǎn)品名稱

VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-1HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)(加注純凈水或者去離子水)
2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地
3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭)及減壓閥
4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置:需要

主要參數(shù)

1、電源電壓:220V  50Hz
2、功率:<1KW(不含真空泵)
3、腔體內(nèi)徑:?300mm
4、極限真空度:9.0×10-4Pa
5、樣品臺加熱溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據(jù)實際需要提升溫度)
6、靶槍數(shù)量:1個(可選配其他數(shù)量)
7、靶槍冷卻方式:水冷
8、靶材尺寸:?2″,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
9、直流濺射功率:500W;射頻濺射功率:300W。(靶電源種類可選,可選擇直流或射頻電源)
10、載樣臺:?140mm,可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能,以實現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。
11、載樣臺轉(zhuǎn)速:1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)
12、工作氣體:Ar等惰性氣體
13、進(jìn)氣氣路:質(zhì)量流量計控制2路進(jìn)氣,一路為100SCCM,另一路為200SCCM。

產(chǎn)品規(guī)格

1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm
2、整機(jī)尺寸:1300mm×660mm×1200mm
3、重量:160kg
4、真空室規(guī)格:φ300×300mm

標(biāo)準(zhǔn)配件

1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選)
2、射頻電源控制系統(tǒng)1套(可選)
3、冷水機(jī)1臺
4、聚酯PU管(?6mm)4m

可選配件

1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。
2、膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)
3、分子泵(德國進(jìn)口或者國產(chǎn)更大抽速)

 


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