產(chǎn)品中心
當(dāng)前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 真空鍍膜機(jī) > 磁控濺射鍍膜 > VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀
簡要描述:VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
相關(guān)文章ARTICLES
詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD雙靶磁控濺射儀配備有一個靶槍,可選擇強磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非導(dǎo)磁材料的濺射鍍膜,強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,且可使用的材料范圍廣,是一款實驗室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。1、可選一個靶槍,配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜或配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-1HD單靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號 | VTC-600-1HD |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要參數(shù) | 1、電源電壓:220V 50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機(jī)尺寸:500mm×560mm×660mm |
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1、直流電源控制系統(tǒng)1套(可選) |
可選配件 | 1、金、銦、銀、白金等各種靶材,可選配強磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。 |
產(chǎn)品咨詢