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簡(jiǎn)要描述:VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
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詳細(xì)介紹
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
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產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開(kāi)發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍和兩個(gè)電源,一個(gè)射頻電源用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,一個(gè)直流電源用于導(dǎo)電材料的濺射鍍膜,可選配強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),且可使用的材料范圍廣,是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
1、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡(jiǎn)便。
產(chǎn)品名稱 | VTC-600-2HD-1000雙靶磁控濺射儀 |
產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-2HD-1000 |
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 |
主要參數(shù) | 1、輸入電源:220V/50Hz |
產(chǎn)品規(guī)格 | 主機(jī)尺寸:寬900mm×深650mm×高1100mm |
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