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  • 4真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ

    4“真空立式淬火爐OTF-1200X-4-VTQ是一款立式可開啟真空管式淬火爐,配有一個密封的液體容器用于樣品淬火,樣品可從Z高溫度1200℃環(huán)境到冰水或冷油中,可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。

    更新日期:2016-07-22
    型號:
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • KSL-1700X-H21700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2

    1700℃ 8升氫氣爐KSL-1700X-H2屬于高溫箱式爐,專門針對于材料在氫氣或惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行燒結(jié)或退火的使用。采用氧化鋁纖維作為爐膛材料,鉬絲作為加熱元件,Z高溫度可高達(dá)1700℃,冷卻水管嵌入爐體頂部密封板中,能有效地保證工作時的冷卻需要及密封性。因此,本機(jī)是需在惰性氣體或還原性氣體環(huán)境下燒結(jié)材料(如鈦合金、熒光材料等)的Z佳選擇。

    更新日期:2016-06-12
    型號:KSL-1700X-H2
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-RTP小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP

    小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管和真空法蘭,是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片(Z大3″)的退火而設(shè)計。本機(jī)采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為 50℃/s,設(shè)有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時控制和溫度曲線顯示。

    更新日期:2016-07-20
    型號:OTF-1200X-4-RTP
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-RTP-HV4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV

    4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV 是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4″石英管及高真空系統(tǒng)(機(jī)械泵+分子泵), 是專為半導(dǎo)體或太陽能電池基片(Z大3″)的退火而設(shè)計。本機(jī)采用10KW紅外燈管加熱,Z快升溫速度為50℃/s,設(shè)有30 段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機(jī)上實(shí)現(xiàn)實(shí)時控制和溫度曲線顯示。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-4-RTP-HV
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-RTP-SL可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL

    可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL是一種快速熱處理爐,采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻,可獲得Z高升溫速率為100°C/s 、降溫速率為5°C/s。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-4-RTP-SL
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • OTF-1200X-4-C4LVS雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS

    雙管滑動快速加熱冷卻爐OTF-1200X-4-C4LVS是特殊的雙管CVD系統(tǒng),是專為在金屬箔上生長薄膜而設(shè)計的,特別適用于新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。本機(jī)可通過滑動爐體,實(shí)現(xiàn)快速加熱和冷卻。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-4-C4LVS
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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