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1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng) OTF-1200X-4-C4LV

簡要描述:1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

  • 產(chǎn)品型號:OTF-1200X-4-C4LV
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2016-04-12
  • 訪  問  量:1504

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詳細介紹

 

產(chǎn)品型號

  1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV

主要特點

  1、采用高純氧化鋁保溫材料,保證了*的溫度均勻性。

  2內(nèi)爐膛表面涂有美國進口氧化鋁涂層,可以提高反射率和保護爐膛潔凈度。

  3、PID控制器 ,可以設置30段升降溫程序。

  4、金屬箔纏繞在內(nèi)管的外表面上發(fā)CVD反應

  5、采用雙管真空密封法蘭,允許反應氣體通過兩管之間(10mm間隙)。

  6、卻氣體直接通入內(nèi)管。

  7、有帶KF25快接和波紋管的高速機械泵。

  8爐底部裝有滑軌,爐體可從一端滑向另一端,從而實現(xiàn)快速升溫和降溫。為了獲得較快的加熱速度,可以 

        先將爐體預熱,然后滑至放置樣品處;為了獲得較快的冷卻速度,可將爐體滑至另一端,同時將冷氣通入  

        樣品所在處。

  9密封法蘭系統(tǒng)采用不銹鋼制作。

  10已通CE認證。

技術參數(shù)

  管式爐

  1電源:單相AC 208-240V   50/60Hz  2.5KW 20A保險絲)

  2、石英管:外管外徑Φ100mm,內(nèi)徑Φ96mm,長1400mm

                        內(nèi)管外徑Φ80mm內(nèi)徑Φ75mm,長1400mm

  3、加熱元件:摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲(表面涂有氧化鋯)

  4、加熱區(qū)域:440mm

  5、恒溫區(qū)域:120mm(±1℃在400-1100℃)

  6、工作溫度:zui高1100,連續(xù)工作1000

  7、zui大升降溫速率:20/min

  8、控溫精度:±1

  9、真空度:10-3torr(機械泵),10-5torr(分子泵)

  質(zhì)量流量混氣系統(tǒng)

  1、質(zhì)子流量計:4路精密質(zhì)子流量計,數(shù)字顯示,氣體流量自動控制

                                MFC1范圍0-100sccm,MFC2范圍0-200sccmMFC3范圍0-200sccm,MFC1范圍0-500sccm

  2、流量精度:0.2%

  3、氣路:4路(每個氣路都有一個獨立的不銹鋼針閥控制)

  4進出氣口:1/4卡套

  5、混氣罐:1

產(chǎn)品規(guī)格

  尺寸:管式爐550mm×380mm×520mm,移動架600mm×600mm×597mm

  重量:135kg

可選配件

  1、分子泵

  2、雙溫區(qū)管式爐

  3、銅箔(生長石墨烯150mm×150mm×25µm

 

     

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