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    更新日期:2016-04-07
    型號:
    廠商性質:生產廠家
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    快速升溫CVD系統(tǒng)RTP-1000-F3LV是專為半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火而設計,配有3路流量計和機械泵。本機采用 9KW的紅外燈進行加熱,Z快升溫速度可達 100℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。

    更新日期:2016-04-12
    型號:RTP-1000-F3LV
    廠商性質:生產廠家
  • OTF-1200X-F3LV開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV

    開啟式單溫區(qū)低真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-F3LV是由開啟式單溫區(qū)管式爐、機械泵、三通道浮子混氣系統(tǒng)組成,可為CVD或擴散實驗提供1-3種的混合氣體,真空度可達10-2torr。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-F3LV
    廠商性質:生產廠家
  • OTF-1200X-80-C2HV高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV

    高真空CVD系統(tǒng)OTF-1200X-80-C2HV是由單溫區(qū)管式爐、兩路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,Z高工作溫度可達1200℃,混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導入管式爐內部,本系統(tǒng)極限真空度可達10-5 torr。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-80-C2HV
    廠商性質:生產廠家
  • OTF-1200X-4-C4LV1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng) OTF-1200X-4-C4LV

    1200℃雙管滑動式四通道混氣CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-C4LV是專門為在金屬箔表面生長薄膜而設計的,特別是應用在新一代能源——柔性金屬箔電極方面的研究。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-4-C4LV
    廠商性質:生產廠家
  • OTF-1200X-4-RTP-C3HV高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV

    高真空快速CVD系統(tǒng)OTF-1200X-4-RTP-C3HV是由4″RTP爐、三通道混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,可進行半導體基片、太陽能電池及其它樣品(尺寸可達 3″ )的退火,并采用 10KW的紅外燈進行加熱,Z快升溫速度可達 120℃/s,配有RS485 接口,可以通過控制軟件在計算機上控制運行并顯示溫度曲線。

    更新日期:2016-04-12
    型號:OTF-1200X-4-RTP-C3HV
    廠商性質:生產廠家
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